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半导体行业超纯水与特气系统的仪表选型要点

半导体洁净室厂房设备现场实拍图
半导体洁净室厂房设备现场实拍图

半导体制造对水质与气体纯度的要求远高于一般工业场合。仪表作为直接接触介质的部件,选型时除了测量性能,更要考虑是否会向系统引入污染。

一、超纯水系统的流量测量

超纯水电导率极低(通常在 0.055 μS/cm 量级),电磁流量计无法使用。此类场合应选用超声波流量计或科氏力质量流量计,接液部件建议选用 PVDF、PFA 等洁净材质。

二、化学液与研磨液计量

酸碱液与 CMP 研磨液具有腐蚀性与含颗粒特点,可选用 PTFE 衬里配钽电极的电磁流量计,或选用外夹式超声波流量计完全避免接液。

三、特种气体流量控制

特气系统通常采用质量流量控制器(MFC)实现精确配比。与之配套的压力、差压仪表需关注氦检漏合格证明与内部表面粗糙度要求。

四、液位与安全监测

化学品储罐液位建议采用非接触式雷达物位计或磁翻板液位计,避免污染介质;同时按规范配置可燃气体与有毒气体探测器,报警信号接入安全联锁系统。

选型时应向供应商明确洁净度等级、颗粒析出限值与材质证明要求。如涉及具体工况,我们可结合现场参数提供选型建议。

如需了解文中涉及的仪表选型与现场应用方案,欢迎致电 15372036297 或前往联系我们留言,我们将结合具体工况给出建议。